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污水處置站尾氣處置電子設備 墳地惡臭主要成份為一氧化碳、氯氣、甲吡啶、甲吡啶水溶性碳氫氧化物惡臭,而對墳地惡臭殺蟲方式,CA日UV乙烯法能夠較好處置這類尾氣,此方式是目前墳地惡臭殺蟲極為常見方式。污水處置站廢氣處置電子設備UV乙烯處置垃圾堆的臭味尾氣基本原理是臭味液體經(jīng)過UV乙烯電子設備收到的紫外光雷射反射后,會將尾氣的氧化物大分子鏈水解轉化成,形成甲烷和水等。

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污水處置站尾氣處置電子設備

墳地惡臭主要成份為一氧化碳、氯氣、甲吡啶、甲吡啶水溶性碳氫氧化物惡臭,而對墳地惡臭殺蟲方式,CA日UV乙烯法能夠較好處置這類尾氣,此方式是目前墳地惡臭殺蟲極為常見方式。

污水處置站廢氣處置電子設備UV乙烯處置垃圾堆的臭味尾氣基本原理是臭味液體經(jīng)過UV乙烯電子設備收到的紫外光雷射反射后,會將尾氣的氧化物大分子鏈水解轉化成,形成甲烷和水等。

借助高能量UV紫外光雷射降解水蒸氣中的氯離子造成浸潤氧,即活性氧,因浸潤氧發(fā)高強子不均衡所以需與氯離子緊密結合,從而造成一水解碳。UV+O2→O-+O(一水解氮)O+O2→O3(一水解碳),*一水解碳對碳氫氧化物具有*的水解作用,對臭味液體及其它腐蝕性臭味有*的去除效用。

臭味氣體借助排煙電子設備輸出到本再生電子設備后,再生電子設備利用高能量UV紫外光雷射及一水解碳對臭味液體展開協(xié)作降解水解化學反應,使臭味液體化學物質其水解轉換成低大分子氧化物、水和甲烷,再透過排煙管線排泄室內(nèi)。

借助高能量UV雷射乙烯臭味液體中病菌的大分子鍵,毀壞病菌的多肽(DNA),再透過一水解碳展開水解化學反應,*達到保鮮及施用病菌的目的。

盡管有高技術的除塵和減少劇毒化學化學物質的排放量公共設施,但仍然存在高濃度化學化學物質的長NA排放量和底蘊,仍然可對地球微生物造成急性的病理學危害。但由于高濃度化學化學物質會在有機體內(nèi)長NA結晶累積,導致糖尿病不斷減輕,使病況無法診斷。

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