雕琢研磨過(guò)程中造成的粉塵的處置，設(shè)置脈沖布袋后處理器處置系統(tǒng)，含粉塵的水蒸氣透過(guò)富宇環(huán)保管道收集后，較重粉塵子在引力促進(jìn)作用下直接升到料倉(cāng)底部，微小的粉塵被后處理器內(nèi)的布袋截?fù)暨^(guò)濾器析出，清潔水蒸氣 則透過(guò)會(huì)量出口排除。由于磨拋研磨電子設(shè)備在展開磨拋操作方式過(guò)程中會(huì)造成大量的粉塵，因此如果不能很好地將造成的粉塵展開處置，不僅會(huì)污染周圍環(huán)境，而且還會(huì)影響操作方式人員的正常研磨操作方式，從而降低研磨效率，而現(xiàn)有的磨拋研磨電子設(shè)備，其除塵效用普遍極差

注塑煉鐵廠濾筒后處理器濾脊蘭后處理器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)是由進(jìn)機(jī)械動(dòng)力、排機(jī)械動(dòng)力、寬幅、灰斗、清灰器、高板器、冷水蒸氣分流原產(chǎn)板、濾筒及總成器組成，類似氣箱脈沖袋后處理內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

濾筒在后處理器中的精心設(shè)計(jì)很重要，既可以橫向精心設(shè)計(jì)在寬幅上雕上，也可以傾斜精心設(shè)計(jì)　在上雕上，從清灰效用看，橫向精心設(shè)計(jì)較為合理。上雕下部為過(guò)濾器室，下部為氣箱脈沖室。在后處理器出口處裝有冷水蒸氣原產(chǎn)板。

注塑煉鐵廠濾筒后處理器含塵液體步入后處理器灰斗后，由于冷水蒸氣剖面突然擴(kuò)大及冷水蒸氣原產(chǎn)板促進(jìn)作用，冷水蒸氣中部分粗壯微粒在動(dòng)和位能促進(jìn)作用下下陷在灰斗；發(fā)射率細(xì)、密度小的微粒步入濾塵室后，透過(guò)布朗擴(kuò)散和篩濾等組合效應(yīng)，使粉塵沉積在Vertus表層上，再生后的液體步入凈腔室由進(jìn)氣口經(jīng)壓縮機(jī)排泄。

濾脊蘭后處理器的水蒸氣阻力隨Vertus表層粉塵層厚度的增加而增大。水蒸氣阻力達(dá)到某規(guī)定值時(shí)展開清灰。此時(shí)PLC程序控制脈沖閥的開閉，先分室提高閥停用，將過(guò)濾器冷水蒸氣阻斷，然后電磁脈沖閥開啟，壓縮水蒸氣以及短的時(shí)間在上寬幅內(nèi)迅速收縮，涌入濾筒，使濾筒收縮變形造成阻尼，并在反向冷水蒸氣沖蝕的促進(jìn)作用下，粘附在濾袋外表層上的粉塵被拆分掉入灰斗中。清灰完畢后，電磁脈沖閥停用，提高閥打開，該室又恢復(fù)過(guò)濾器狀態(tài)。清灰各室依次展開，從室清灰開始至到時(shí)候清灰開始Loupe清灰周期。開裂的粉塵跌入灰斗內(nèi)透過(guò)缷灰閥排泄。