為的是不負面影響操作方式相關(guān)人員的檢視，選用外部排氣管罩展開排塵。主要就是在顎式角蕨上部加裝JY部性富宇環(huán)保罩，雖然電子設(shè)備與排氣管罩沒密封，富宇環(huán)保點距碎裂產(chǎn)塵點遠，引致所需冷卻系統(tǒng)和加壓較大，引致除塵電子設(shè)備所需能源消耗高。顎式角蕨上部排塵方法在一定某種程度上掌控了顎式角蕨上部污染源，但是上部比較主要就外逸灰塵依然沒得到有效率掌控，排塵效用差，除此之外有大批灰塵從釜口的溜槽外逸，引致托盤貨物運輸走道灰塵彌漫著。該排塵方式還負面影響顎式角蕨的恒定停機。

為消除舊有顎式角蕨防水舉措嚴重不足，在大批測試和課堂教學(xué)的基礎(chǔ)上，提出了顎式碎裂外部排塵控制技術(shù)。該控制技術(shù)是在顎式角蕨和粘毛托盤處裝設(shè)第道防水軟簾，在顎式角蕨下方增設(shè)公益活動密封底板，在顎式角蕨釜口溜槽尾端設(shè)置第三道防水軟簾，排塵罩增設(shè)在釜口溜槽與第三道防水軟簾尾端。顎式角蕨組織工作時電子零件由托盤運載至顎式角蕨組織工作腔內(nèi)展開碎裂，操作方式相關(guān)人員可透過顎式角蕨下方的公益活動密封底板展開檢視，電子零件碎裂過程中造成的灰塵以及電子零件所帶的灰塵透過排氣管罩經(jīng)除塵系統(tǒng)過濾器后排泄，碎裂后的電子零件經(jīng)釜口溜槽及第三裝設(shè)軟簾至出料托盤運往說行工藝技術(shù)。在釜口溜槽與第三裝設(shè)軟簾尾端增設(shè)排塵罩，因為排塵罩緊鄰產(chǎn)塵點，且為碎裂冷空氣低壓區(qū)，同時由于粘毛口和出料口均增設(shè)裝設(shè)軟簾，將顎式角蕨外部逐步形成一個單純的密封內(nèi)部空間，選用較細的冷卻系統(tǒng)就可逐步形成加壓，將碎裂造成的灰塵高效率排泄。